Cette plate-forme, METIS, est une plate-forme planaire hybride (pallier à air et mécanique) dédiée aux applications de scanning et par étape. C'est une plate-forme de 6 axes bougeant dans les directions X, Y, Z et T. La planéité dynamique sur toute la course ainsi que la répétabilité bidirectionnelle sont les paramètres clés. Cette plate-forme est actuellement utilisée dans les applications suivantes :
- Processus de contrôle des wafers tels que dimension critique et "Thin film Metrology".
- "Wafer scribing"
- "Wafer Laser Thermal Annealing"
Cette plate-forme peut également être utilisée dans les machines de lithographie "Back End" (alignement de masques) et les applications de découpe de wafers.
Cette plate-forme se caractérise par :
- Excellente planéité de mouvement grâce aux paliers à air
- Pas de limite de course pour l'axe rotatif
- Double axes Z : course grossière pour le chargement et déchargement et course précise pour l'ajustement du focus
- Compensateur de gravité en Z
- Correction du lacet grâce à un léger décalage des moteurs Y1 et Y2
- Peut être associé à un système d'isolation actif piloté par les électroniques ETEL
- Les courses en X et Y peuvent être plus longues (avec quelques limitations sur certaines performances)
