IMP库

IMP轨迹拟合
IMP轨迹拟合

插补运动规划（IMP）是轨迹生成和运行库，特别为ETEL的UltimET和AccurET控制单元产品优化插补功能。
这套综合性解决方案可用于：
- 轨迹生成，在各种技术条件下满足应用对高性能的要求；
- 高轨迹精度，亮点包括可在不同运动约束（速度，加速度和加加速）条件下进行几何拟合和自动过渡等；
- 事件管理功能，在轨迹执行过程中，在精确的位置执行特定的操作（使用位置式高速触发器功能）。

用户可定义两类元素：
- 几何拟合，精确地沿指定路径运动：在用户定义的边界内，IMP预处理理想轨迹。实际使用允许的公差进行加速；
- 自动过渡，快速和平滑运动到下个图形：从一个图形转到下一个图形时，IMP自动优化过渡路径。

IMP - 几何拟合线与自动过渡
IMP - 几何拟合线与自动过渡

IMP提供以下优点：

  • 提高机器设备的吞吐量：
    • 快速完成全轨迹生成；
    • 减小振动和缩短稳定时间。
  • 提高处理质量：
    • 无轨迹拟合质量损失；
    • 可在轨迹层设置边界和约束，满足理想拟合的处理要求；
    • 可设置和验证机器设备的全局限制。
  • 灵活和轻松定义轨迹：
    • ​​​​​​​多个预定义的轨迹元素（圆，线、多项式，样条等）；
    • 离线预处理和优化，实时执行。

更多信息，参见应用说明或参见相应的用户手册 。