Módulo combinado Z3TH

El Módulo Combinado Z3TH aumenta el rango de módulos para montar sobre las plataformas XY existentes. El Z3TH, con 4 grados de libertad, proporciona 364° de rotación Theta, ejes Z dobles,  amplio para carga-descarga de oblea y fino para enfoque, así como una corrección Tip-Tilt de  ±0.1°. Este módulo Z3TH es una atractiva alternativa a los piezo-actuadores Z, eliminando la histéresis y la no-linealidad en lazo abierto, a la vez que mejorar el error de seguimiento, la repetitividad, y las prestaciones de desplazamiento y estabilización de posición, además de recorridos mucho mayores.

El módulo Z3TH está principalmente destinado a aplicaciones de tipo front-end y proporciona una adecuada solución para afrontar cualquier aplicación que requiera:

  • Alineación entre la herramienta del proceso y un sustrato
  • Mapeado de planitud
  • Mejora al desplazar y estabilizar posición

Principalmente aplicado en litografía de back-end y control de proceso de obleas.

Características

  • Rotación Theta de 364°
  • Corrección tip-tilt sobre ±0.1° para nivelación y mejora de desplazamiento y estabilización
  • Paso de vacío hacia el nivel del plato
  • Integración de Z doble: recorrido amplio para carga/descarga y fino para ajuste foco
  • Compatible con sala limpia ISO clase 1
  • Baja desviación axial y radial de ±1 µm

Especificaciones

DescripciónZ finoTip-TiltZ amplioTheta
Recorrido±2 mm±0.1°16 mm364°
Velocidad máxima---10 rad/s
Aceleración máxima---55 rad/s2
Estabilidad de posición±1.9 nm±0.0043 arcsec-±0.0038 arcsec
Repetitividad bidireccional±0.010 µm--±0.35 arcsec
Tiempo de despl. y estabiliz.
(100 µm en ±30 nm)
45 ms---
Tiempo de despl. y estabiliz.
(180° dentro de ±20 µ°)
   525 ms
Carga máxima2 kg

Pida el Manual de Integración correspondiente para más información. 

DescripciónHoja de datosPlano dimensionalModelo 3D
Z3TH COMBINED MODULE